硝材化學(xué)穩定性差，基片在前加工過(guò)程中流轉過(guò)程中，表面已經(jīng)受到腐蝕，形成了腐蝕層或水解層（也許是局部的、極薄的）。膜層鍍在腐蝕層或水解層上其吸附就差，膜牢固度不良。

基片表面有臟污、油斑、灰點(diǎn)、口水點(diǎn)等，局部膜層附著(zhù)不良，造成局部膜牢固度不良。

改善對策：

㈠加強去油去污處理，如果是超聲波清洗，應重點(diǎn)考慮去油功能，并保證去油溶液的有效性；如若是手擦，可考慮先用碳酸鈣粉擦拭后再清擦。加強鍍前烘烤，條件許可，基片溫度能達到300℃以上更好，恒溫20分鐘以上，盡可能使基片表面的水qi、油汽揮發(fā)。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

在室溫(25℃)和氣體壓力為p(Pa)的條件下，金屬鍍鈦廠(chǎng)家服務(wù)，殘余氣體分子的平均自由程為λ=6.65×10-1/pcm(2)由上式計算可知，在室溫下，p=10-2Pa時(shí)，λ=66.5cm，即一個(gè)分子在與其它分子發(fā)生兩次碰撞之間約飛行66.5cm。碰撞圖2是蒸發(fā)粒子在飛向基片途中發(fā)生碰撞的比例與氣體分子的實(shí)際路程對平均自由程之比值的曲線(xiàn)。從圖中可以看出，當λ=L時(shí)，有63%的蒸發(fā)分子會(huì )發(fā)生碰撞。如果平均自由程增加10倍，則散射的粒子數減少到9%，因此，蒸發(fā)粒子的平均自由程必須遠遠大于蒸距才能避免蒸發(fā)粒子在向基片遷移過(guò)程中與殘余氣體分子發(fā)生碰撞，從而有效地減少蒸發(fā)粒子的散射現象。目前常用的蒸發(fā)鍍膜機的蒸距均不大于50cm。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開(kāi)始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉，都很需要增透膜則大量用于照相和各種激光器開(kāi)始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜玻璃，都很需要。增透膜則大量用于照相機和電視攝象機的鏡頭上。在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤(pán)、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件(CCD)也都甬道各種薄膜在顯示器件方面，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯示裝置的透明導電膜、攝像管光導膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法制備。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制